Titanyum Püskürtme

Püskürtme hedefleri birçok endüstride önemli uygulamalara sahiptir.
Saflık, uygun bir titanyum püskürtme hedefi üretmek için temel performans göstergelerinden biridir. Püskürtme kaplayıcı hedefinin saflığı, filmin performansını büyük ölçüde etkiler.
Genel olarak Püskürtme, yüksek olmayan endüstriyel uygulamalar için saflık gereksinimlerini hedefler ancak yarı iletkenlerde ve görüntüleme cihazlarında püskürtme hedefleri için çok katı gereksinimler vardır. Bilim ve teknolojinin gelişmesiyle birlikte gereksinimler daha katı hale geliyor. Daha önce saflığı %99,995’e ulaşan titanyum hedefi, elektronik sektörünün proses gereksinimlerini karşılayabiliyordu. Ancak mevcut endüstri %99,999 ve hatta %99,9999 oranında malzeme saflığı gerektirmektedir. Püskürtme hedefi üreticilerinin tümü bu yüksek saflık hedeflerini sunamaz.